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光解除臭净化设备使用说明书。

编辑:除尘设备厂家 来源:www.azcfilm.com 点击量:146 发表时间:2018-01-18

    一:产品性能 
产品采用185nm紫外线辐射电离空气中的氧气、水分子,产生强氧化性的自由基,通过自由基氧化污染物分子,实现除恶臭、降低污染物浓度的功能。  
二:产品结构 
  产品主体采用304不锈钢,整体采用聚四氟乙烯材料绝缘、隔热防护,长效性能优越;易耗元件采用抽屉结构,整体配置门体结构,方便管理维护。废气自下向上,依次经过过滤装置、紫外线辐射装置、臭氧氧化装置三节净化;控制系统设置在设备的底部,方便操控;两侧装配电源,上部为镇流器和保护电器,下部为紫外线灯帽固定架,配置若干风机冷却。 无特别说明,设备为负压使用。

光解除臭技术特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体,改变恶臭气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2SVOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2H2O等。加臭气、和本公司专利技术“七种催化涂层技术”进行废气再次分解和催化。利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。 UVO2O- O(活性氧)O O2O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。天皓环境“七种催化涂层技术”加强了-C波段紫外线照射数倍;增加了-C波段光段的反射,使-C波反射再次利用;次涂层材料属于惰性材质,在-C波段紫外线的照射下慢慢挥发催化剂进行废气再次催化。彻底去除废气中有毒、有害、有味气体。

  UV光氧催化除臭设备8大优点 
4.1 高效除恶臭:能高效去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味,净化、脱臭效率较高可达99%以上,净化、脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准(GB14554-93). 
4.2 无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,使工业废气通过本设备进行分解净化,无需添加任何物质参与化学反应。, 
4.3 适应性强:可适应高浓度,大气量,不同工业废气物质的净化处理,可每天24小时连续工作,运行稳定可靠。 4.4 运行成本低:本设备无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,本设备能耗低,(每处理1000立方米/小时,仅耗电约0.2度电能),设备风阻极低<50pa,可节约大量排风动力能耗。 
4.5 无需预处理:工业废气无需进行特殊的预处理,如加温、加湿等,设备工作环境温度在摄氏-30℃-95℃之间,

湿度在30%98%PH值在3-11之间均可正常工作。 
4.6 设备占地面积小,自重轻:适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件,设备占地面积<1平方米/处理10000m3/h风量。 
4.7 优质进口材料制造:防火、防腐蚀性能高,性能稳定,使用寿命长。 
4.8 环保高科技专利产品:天皓环境采用国际上较先进技术理念,通过专家及我公司工程技术人员长期反复的试验,开发研制出的,具有完全自主知识产权的高科技环保净化产品,可彻底分解工业废气中有毒有害物质,并能达到完美的净化效果,经分解后的气体,可完全达到无害化排放,绝不产生二次污染,同时达到高效消毒杀菌的作用。   
5 适用场合及应用对象 
石油及天然气的精炼厂、生物制药厂、染料化工厂、焦化厂、制革厂、纸浆厂、缫丝厂、金属冶炼厂、食品厂、油脂厂、溶剂厂、酿造厂、饲料加工厂、工业废水处理厂、柴油汽车(移动源)等。

 


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